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发布日期：2025-08-07 06:46    点击次数：65

快科技8月5日音问开云体育，据媒体报说念，佳能（日本）宇齐宫市的全新扩建后的光刻机工场将于9月讲求插足运营。

这是自2004年该光刻机工场落成后，时隔21年的初度扩建。旨在增产光刻建设，借助东说念主工智能（AI）产业的迅猛发展，霸占由专家龙头企业阿斯麦主导的光刻建设阛阓。

濒临专家AI产业催生的半导体需求激增，佳能斥资500亿日元（约合23.94亿东说念主民币）打造的超6.7万平素米新厂区。

新工场的中枢打破在于双轨技巧布局：在陆续传统UV光刻建设分娩的同期，引入立异性的纳米压印光刻系统。通过将电路图案平直压印至晶圆，大幅简化制造过程。

相较于传统光刻工艺，其在分娩老本与能耗终结方面具备显贵上风，为佳能挑战阿斯麦（ASML）的统治地位提供要道技巧支点。

产能接头泄露，新工场瞻望2027年收尾满产，届时集聚宇齐宫、阿见两大现存基地，佳能光刻机年产量将打破300台大关——较2024年233台的出货量跃升近30%。

尽管现在佳能以30%的专家阛阓份额位居行业第二，但在决定高端芯片性能的极紫外光（EUV）范围，仍与占据齐全主导的阿斯麦存在代际差距。

据寰宇半导体营业统计组织预测，2026年专家半导体阛阓限度将达7607亿好意思元，年增长率8.5%，更有机构预判2030年阛阓将打破万亿好意思元大关。当阿斯麦凭借EUV技巧收割高端芯片制造红利之际，佳能正试图通过纳米压印的各异化旅途，在AI算力基础形势的黄金赛说念上开采新战场。

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